技术领域
[0001] 本发明涉及一种散光玻璃的制备方法。
相关背景技术
[0002] 目前，在玻璃制造及加工的领域，包括LCD、TFT、TP等制造行业，因制程或产品或客户的需求，需要减少玻璃对光源的反射，以便使感应器或感应单元能够更清洗的捕捉到图像，因此需要对玻璃表面进行加工，减少玻璃的反射，增加玻璃的漫反射，是玻璃呈现散光的效果。
[0003] 而目前散光玻璃主要有在玻璃表面贴膜或镀光学膜层等方法。贴膜的方式因膜材的易老化及硬度较低，易划伤，因此实际使用效果不佳。镀光学膜层参见中国专利：CN208500766U可以通过增加光线的透过，减少光的反射，但光学膜层的耐磨性很难维持，长期使用后会出现膜层局部脱落，影响散光效果。
具体实施方式
[0029] 实施例一：
[0030] 一种散光玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
[0031] 步骤一：在玻璃表面镀膜，镀膜膜层为金属钛，镀膜通过PVD方式制备，厚度为50纳米；
[0032] 步骤二：在步骤一所得玻璃表面通过黄光制程设置网点状图案，制程包含正性光刻胶涂布、预固化、曝光、显影、固化；
[0033] 步骤三：对玻璃表面镀制膜层进行蚀刻，使膜层呈现网点状图案；
[0034] 步骤四：对玻璃表面进行激光改性，采用1064nm光源的超快激光局域诱导装置对玻璃表面照射，网点状图案中未被覆盖的地方玻璃表面被改质，被覆盖的地方未被改质；
[0035] 步骤五：对玻璃采用质量浓度为1％氟化氢蚀刻液进行腐蚀，蚀刻深度为0.5微米，蚀刻时间为30秒；
[0036] 步骤六：用金属蚀刻液对玻璃表面进行蚀刻处理，去除表面的金属层；
[0037] 步骤七：对玻璃表面进行抛光，可根据散光要求对玻璃表面进一步抛光，抛光选用物理抛光：采用抛光机，利用抛光粉+抛光毛刷对玻璃进行研磨。
[0038] 实施例二：
[0039] 一种散光玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
[0040] 步骤一：在玻璃表面镀膜，镀膜膜层为金属铬，镀膜通过CVD方式制备，厚度为2微米；
[0041] 步骤二：在步骤一所得玻璃表面通过黄光制程设置网点状图案，制程包含正性光刻胶涂布、预固化、曝光、显影、固化；
[0042] 步骤三：对玻璃表面镀制膜层进行蚀刻，使膜层呈现网点状图案；
[0043] 步骤四：对玻璃表面进行激光改性，采用1064nm光源的超快激光局域诱导装置对玻璃表面照射，网点状图案中未被覆盖的地方玻璃表面被改质，被覆盖的地方未被改质；
[0044] 步骤五：对玻璃采用质量浓度为40％的氟化铵蚀刻液进行腐蚀，蚀刻深度为80微米，蚀刻时间为30分钟；
[0045] 步骤六：用金属蚀刻液对玻璃表面进行蚀刻处理，去除表面的金属层；
[0046] 步骤七：对玻璃表面进行抛光，可根据散光要求对玻璃表面进一步抛光，抛光选用化学抛光：采用低浓度HF酸(5％以下)和硝酸混合液进行浸泡或冲洗。
[0047] 实施例三：
[0048] 一种散光玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
[0049] 步骤一：在玻璃表面涂布遮光油墨，涂布遮光油墨可通过丝印、刮涂、辊涂、旋涂、喷涂方式制备，油墨厚度为1微米。
[0050] 步骤二：在步骤一所得玻璃表面通过黄光制程设置网点状图案，制程包含正性光刻胶涂布、预固化、曝光、显影、固化；
[0051] 步骤三：对玻璃表面进行激光改性，采用1064nm光源的超快激光局域诱导装置对玻璃表面照射，网点状图案中未被覆盖的地方玻璃表面被改质，被覆盖的地方未被改质。
[0052] 步骤四：对玻璃采用质量浓度为1％氟化氢蚀刻液进行腐蚀，蚀刻深度为0.5微米，蚀刻时间为30秒；
[0053] 步骤五：对玻璃表面进行脱膜处理，去除表面的遮挡油墨。
[0054] 步骤六：对玻璃表面进行抛光，可根据散光要求对玻璃表面进一步抛光，抛光选用物理抛光：采用抛光机，利用抛光粉+抛光毛刷对玻璃进行研磨。
[0055] 实施例四：
[0056] 一种散光玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
[0057] 步骤一：在玻璃表面涂布遮光油墨，涂布遮光油墨可通过丝印、刮涂、辊涂、旋涂、喷涂方式制备，油墨厚度为30微米。
[0058] 步骤二：在步骤一所得玻璃表面通过黄光制程设置网点状图案，制程包含正性光刻胶涂布、预固化、曝光、显影、固化；
[0059] 步骤三：对玻璃表面进行激光改性，采用1064nm光源的超快激光局域诱导装置对玻璃表面照射，网点状图案中未被覆盖的地方玻璃表面被改质，被覆盖的地方未被改质。
[0060] 步骤四：对玻璃采用质量浓度为40％的氟化铵蚀刻液进行腐蚀，蚀刻深度为80微米，蚀刻时间为30分钟；
[0061] 步骤五：对玻璃表面进行脱膜处理，去除表面的遮挡油墨。
[0062] 步骤六：对玻璃表面进行抛光，可根据散光要求对玻璃表面进一步抛光，抛光选用化学抛光：采用低浓度HF酸(5％以下)和硝酸混合液进行浸泡或冲洗。
[0063] 实施例五：
[0064] 一种散光玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
[0065] 步骤一：在玻璃表面涂布感光油墨，涂布感光油墨可通过丝印、刮涂、辊涂、旋涂、喷涂方式制备，油墨厚度为1微米；
[0066] 步骤二：在步骤一所得玻璃表面通过曝光、显影得到网点状图案；
[0067] 步骤三：对玻璃表面镀制膜层进行蚀刻，使膜层呈现网点状图案；
[0068] 步骤四：对玻璃表面进行激光改性，采用1064nm光源的超快激光局域诱导装置对玻璃表面照射，网点状图案中未被覆盖的地方玻璃表面被改质，被覆盖的地方未被改质；
[0069] 步骤五：对玻璃采用质量浓度为1％氟化氢蚀刻液进行腐蚀，蚀刻深度为0.5微米，蚀刻时间为30秒；
[0070] 步骤六：对玻璃表面进行脱膜处理，去除表面的感光油墨；
[0071] 步骤七：对玻璃表面进行抛光，可根据散光要求对玻璃表面进一步抛光，抛光选用物理抛光：采用抛光机，利用抛光粉+抛光毛刷对玻璃进行研磨。
[0072] 实施例六：
[0073] 一种散光玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
[0074] 步骤一：在玻璃表面涂布感光油墨，涂布感光油墨可通过丝印、刮涂、辊涂、旋涂、喷涂方式制备，油墨厚度为1‑30微米；
[0075] 步骤二：在步骤一所得玻璃表面通过曝光、显影得到网点状图案；
[0076] 步骤三：对玻璃表面镀制膜层进行蚀刻，使膜层呈现网点状图案；
[0077] 步骤四：对玻璃表面进行激光改性，采用1064nm光源的超快激光局域诱导装置对玻璃表面照射，网点状图案中未被覆盖的地方玻璃表面被改质，被覆盖的地方未被改质；
[0078] 步骤五：对玻璃采用质量浓度为40％的氟化铵蚀刻液进行腐蚀，蚀刻深度为80微米，蚀刻时间为30分钟；
[0079] 步骤六：对玻璃表面进行脱膜处理，去除表面的感光油墨；
[0080] 步骤七：对玻璃表面进行抛光，可根据散光要求对玻璃表面进一步抛光，抛光选用化学抛光：采用低浓度HF酸(5％以下)和硝酸混合液进行浸泡或冲洗。
[0081] 上述实施例中：
[0082] 1064nm光源的超快激光局域诱导装置，功率3‑5KW，功率密度20‑50kw/cm2。
[0083] 金属蚀刻液外购厂家为默克和晶科微。
