专利排行榜_北京大学专利排行榜_北京大学专利排行榜查询检索_北京大学专利排行榜检索查询分析平台-盲点网

北京大学本科一流大学建设高校

综合榜单
数量榜单（按部）
数量榜单（按大类）
数量榜单（按小类）
质量榜单（按部）
质量榜单（按大类）
质量榜单（按小类）

专利数量榜单

有效榜：第53名

发明有效量	5483
实用新型有效量	466
外观设计有效量	20

授权榜：第65名

发明授权量	8285
实用新型授权量	795
外观设计授权量	23

申请榜：第69名

发明申请量	13341
实用新型申请量	795
外观设计申请量	23

专利竞争力排行：第38名

排名	申请量	授权量	有效量	平均维持年限	发明人数量	被引证数量	PCT申请量	转让许可质押量	技术领域分布量	评分
38	14159	9103	5969	5.38	15975	37519	133	1238	8646	71.25

申请量榜单

排名	领域	发明	实用
31	H：电学	3966	104
48	G：物理	5982	329
63	A：人类生活必需	1896	178
64	C：化学；冶金	3111	83

授权量榜单

排名	领域	发明	实用
23	H：电学	2539	104
44	G：物理	3677	329
54	C：化学；冶金	1989	83
61	A：人类生活必需	1114	178

有效量榜单

排名	领域	发明	实用
27	H：电学	1646	50
41	G：物理	2531	188
43	A：人类生活必需	759	120
50	C：化学；冶金	1274	61

申请量榜单

排名	领域	发明	实用
5	C30：晶体生长	169	2
5	G04：测时学	38	2
6	B81：微观结构技术	206	1
6	G11：信息存储	200	2
7	B41：印刷；排版机；打字机；模印机	109	14
8	H10：	63	0
11	B68：鞍具；家具罩面	2	0
12	C40：组合技术	15	0
17	H01：基本电气元件	1891	53
17	H03：基本电子电路	225	5
21	H04：电通信技术	1661	22
23	A61：医学或兽医学；卫生学	1707	130
25	G02：光学	366	46
28	G03：摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术	69	7
29	C12：生物化学，啤酒，烈性酒，果汁酒，醋	1034	20
32	G12：仪器的零部件	6	0
34	B82：超微技术	288	1
37	G16：特别适用于特定应用领域的信息通信技术〔ICT〕	184	0
40	G06：计算；推算；计数	3485	25
40	G21：核物理；核工程	22	3
46	C03：玻璃；矿棉或渣棉	47	1
47	C23：对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制	162	26

授权量榜单

排名	领域	发明	实用
4	B41：印刷；排版机；打字机；模印机	92	14
5	C30：晶体生长	105	2
5	G04：测时学	28	2
6	G11：信息存储	90	2
7	B81：微观结构技术	135	1
9	C40：组合技术	11	0
12	B68：鞍具；家具罩面	2	0
14	H01：基本电气元件	1117	53
16	H10：	19	0
17	H03：基本电子电路	145	5
17	H04：电通信技术	1181	22
21	G03：摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术	54	7
21	G16：特别适用于特定应用领域的信息通信技术〔ICT〕	87	0
22	A61：医学或兽医学；卫生学	992	130
22	C12：生物化学，啤酒，烈性酒，果汁酒，醋	639	20
23	B82：超微技术	204	1
23	G06：计算；推算；计数	2135	25
24	G02：光学	225	46
33	G21：核物理；核工程	17	3
39	C03：玻璃；矿棉或渣棉	31	1
42	C23：对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制	95	26
49	C01：无机化学	211	14

有效量榜单

排名	领域	发明	实用
2	G04：测时学	27	1
5	C30：晶体生长	82	0
5	C40：组合技术	12	0
6	B68：鞍具；家具罩面	2	0
6	B81：微观结构技术	53	0
7	G11：信息存储	66	0
9	H10：	5	0
15	H01：基本电气元件	770	24
17	G02：光学	166	30
20	A61：医学或兽医学；卫生学	691	85
21	G16：特别适用于特定应用领域的信息通信技术〔ICT〕	77	0
21	H03：基本电子电路	83	1
22	H04：电通信技术	727	12
26	G03：摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术	25	2
28	C12：生物化学，啤酒，烈性酒，果汁酒，醋	403	17
29	B82：超微技术	140	0
32	B41：印刷；排版机；打字机；模印机	10	2
33	C03：玻璃；矿棉或渣棉	27	1
35	G21：核物理；核工程	9	3
37	G06：计算；推算；计数	1462	14
39	C23：对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制	63	22
41	G10：乐器；声学	26	0
45	F23：燃烧设备；燃烧方法	14	6
49	C01：无机化学	135	12
50	C09：染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用	140	1
50	F25：制冷或冷却；加热和制冷的联合系统；热泵系统；冰的制造或储存；气体的液化或固化	9	17

申请量榜单

排名	领域	发明	实用
2	G04F：时间间隔的测量	35	2
2	H10B：	31	0
3	B41B：制版、排字或拆版还字用的机器或附件；铅字；照相或光电排字装置	3	0
3	B68C：鞍座；镫	2	0
4	B41J：打字机；选择性印刷机构，即不用印版的印刷机构；排版错误的修正	89	12
4	G03G：电记录术；电照相；磁记录	6	0
5	B41C：印刷版的制造或复制工艺	4	0
5	C30B：单晶生长（用超高压的，例如用于金刚石形成的入B01J 3/06）；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼（金属或合金的区熔精炼入C22B）；具有一定结构的均匀多晶材料的制备（金属铸造，按同样工艺或装置的其他物质铸造入B22D；塑料的加工入B29；改变金属或合金的物理结构入C21D、C22F）；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理（用于半导体器件或元件生产的入H01L）；其所用的装置	169	2
5	H04S：立体声系统	14	0
6	B81C：专门适用于制造或处理微观结构的装置或系统的方法或设备	182	1
6	G11C：静态存储器	186	2
7	B82B：通过操纵单个原子、分子或作为孤立单元的极少量原子或分子的集合而形成的纳米结构；其制造或处理	68	0
7	G03C：照相用的感光材料；照相过程，例如，电影、X射线、彩色或者立体照相过程；照相的辅助过程	2	2
7	H01L：半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件	1356	19
7	H04N：图像通信，如电视	630	7
8	B81B：微观结构的装置或系统，例如微观机械装置	94	0
8	G02F：用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器	179	14
10	H03C：调制	2	0

授权量榜单

排名	领域	发明	实用
2	G04F：时间间隔的测量	28	2
3	B41B：制版、排字或拆版还字用的机器或附件；铅字；照相或光电排字装置	3	0
3	B68C：鞍座；镫	2	0
3	G03G：电记录术；电照相；磁记录	5	0
4	B41J：打字机；选择性印刷机构，即不用印版的印刷机构；排版错误的修正	74	12
4	G03C：照相用的感光材料；照相过程，例如，电影、X射线、彩色或者立体照相过程；照相的辅助过程	2	2
5	B41C：印刷版的制造或复制工艺	4	0
5	B44F：特种图样或图画	2	0
5	C30B：单晶生长（用超高压的，例如用于金刚石形成的入B01J 3/06）；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼（金属或合金的区熔精炼入C22B）；具有一定结构的均匀多晶材料的制备（金属铸造，按同样工艺或装置的其他物质铸造入B22D；塑料的加工入B29；改变金属或合金的物理结构入C21D、C22F）；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理（用于半导体器件或元件生产的入H01L）；其所用的装置	105	2
5	H04N：图像通信，如电视	463	7
5	H04S：立体声系统	7	0
6	B81C：专门适用于制造或处理微观结构的装置或系统的方法或设备	122	1
6	C07H：糖类；及其衍生物；核苷；核苷酸；核酸	73	0
6	G11C：静态存储器	80	2
7	B82B：通过操纵单个原子、分子或作为孤立单元的极少量原子或分子的集合而形成的纳米结构；其制造或处理	54	0
7	H01L：半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件	784	19
7	H10B：	6	0
8	B81B：微观结构的装置或系统，例如微观机械装置	56	0
8	G02F：用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器	110	14
9	C40B：组合化学；化合物库，如化学库、虚拟库	11	0
10	G16B：	32	0
10	G21H：从放射源取得能量；其他类目不包括的放射源辐射的应用；宇宙射线的利用	4	0
10	H03L：电子振荡器或脉冲发生器的自动控制、起振、同步或稳定	25	1

有效量榜单

排名	领域	发明	实用
2	B68C：鞍座；镫	2	0
2	G04F：时间间隔的测量	27	1
2	H10B：	4	0
4	B82B：通过操纵单个原子、分子或作为孤立单元的极少量原子或分子的集合而形成的纳米结构；其制造或处理	17	0
5	C30B：单晶生长（用超高压的，例如用于金刚石形成的入B01J 3/06）；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼（金属或合金的区熔精炼入C22B）；具有一定结构的均匀多晶材料的制备（金属铸造，按同样工艺或装置的其他物质铸造入B22D；塑料的加工入B29；改变金属或合金的物理结构入C21D、C22F）；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理（用于半导体器件或元件生产的入H01L）；其所用的装置	82	0
5	C40B：组合化学；化合物库，如化学库、虚拟库	12	0
5	F25C：冰的制造、加工、储存或分配	4	3
5	H04N：图像通信，如电视	312	4
5	H04S：立体声系统	7	0
6	B81C：专门适用于制造或处理微观结构的装置或系统的方法或设备	49	0
6	G02F：用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器	92	7
8	G11C：静态存储器	61	0
8	H01L：半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件	534	6
9	B41B：制版、排字或拆版还字用的机器或附件；铅字；照相或光电排字装置	0	0
9	B81B：微观结构的装置或系统，例如微观机械装置	24	0
10	C07H：糖类；及其衍生物；核苷；核苷酸；核酸	41	0
10	G16B：	26	0
10	H01J：放电管或放电灯	32	5

排名	领域	申请数量	授权量	有效量	平均维持年限	发明人数量	被引证数量	PCT申请量	转让许可质押量	技术领域分布量	评分
16	H：电学	4070	2643	1696	5.93	4783	13382	65	475	2754	74.85
28	G：物理	6311	4006	2719	5.12	8945	17298	15	554	3292	73.78
33	A：人类生活必需	2074	1292	879	5.22	3861	3666	29	125	2323	67.75
42	C：化学；冶金	3194	2072	1335	5.47	5132	7019	51	193	3807	70.48
84	B：作业；运输	1316	904	500	5.48	2397	3789	6	130	2057	62.95

排名	领域	申请数量	授权量	有效量	平均维持年限	发明人数量	被引证数量	PCT申请量	转让许可质押量	技术领域分布量	评分
2	G04：测时学	40	30	28	3.1	83	71	0	4	28	90.20
4	B41：印刷；排版机；打字机；模印机	123	106	12	9.38	109	559	0	70	73	90.53
5	B68：鞍具；家具罩面	2	2	2	5.0	4		0		3	84.68
5	C30：晶体生长	171	107	82	4.38	298	327	1	4	163	81.05
6	B81：微观结构技术	207	136	53	6.92	347	963	0	16	154	87.98
6	C40：组合技术	15	11	12	4.45	40	59	2	3	43	88.90
6	G11：信息存储	202	92	66	5.42	294	429	0	12	143	81.60
8	H10：	63	19	5	2.16	116	1	0		117	82.17
14	G03：摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术	76	61	27	7.51	200	317	0	10	122	67.12
14	H01：基本电气元件	1944	1170	794	5.88	2386	5716	2	241	1370	76.10
14	H04：电通信技术	1683	1203	739	6.21	2161	6488	62	196	1049	72.90
17	G02：光学	412	271	196	4.32	709	909	0	30	386	74.99
17	A61：医学或兽医学；卫生学	1837	1122	776	5.23	3416	3333	26	115	2044	76.30
17	G06：计算；推算；计数	3510	2160	1476	5.68	5083	11160	8	417	1319	79.90
18	B82：超微技术	289	205	140	5.04	692	804	2	17	474	77.48
18	H03：基本电子电路	230	150	84	5.84	423	754	1	16	223	65.09
21	C12：生物化学，啤酒，烈性酒，果汁酒，醋	1054	659	420	5.58	1977	1592	35	78	855	67.76
25	G16：特别适用于特定应用领域的信息通信技术〔ICT〕	184	87	77	2.09	615	67	1	2	242	73.24
25	C07：有机化学	969	675	395	6.15	1941	1849	23	53	1865	72.45
29	G12：仪器的零部件	6	3	1	6.33	27	19	0		14	57.65
34	G21：核物理；核工程	25	20	12	4.55	97	54	0		51	43.99
39	C03：玻璃；矿棉或渣棉	48	32	28	4.69	81	141	0	5	94	61.65
44	C23：对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制	188	121	85	4.85	491	400	0	14	297	69.39
46	H05：其他类目不包含的电技术	107	65	34	4.51	287	250	0	7	187	62.77
48	G10：乐器；声学	49	33	26	4.88	120	184	0	1	94	62.21

排名	领域	申请数量	授权量	有效量	平均维持年限	发明人数量	被引证数量	PCT申请量	转让许可质押量	技术领域分布量	评分
1	H10B：	31	6	4	1.0	35	1	0		46	90.22
2	G03G：电记录术；电照相；磁记录	6	5	1	14.2	20	31	0	1	19	88.15
2	G04F：时间间隔的测量	37	30	28	3.1	65	62	0	4	23	96.10
2	B68C：鞍座；镫	2	2	2	5.0	4		0		3	90.92
3	B41B：制版、排字或拆版还字用的机器或附件；铅字；照相或光电排字装置	3	3	0	8.0	15	5	0		3	81.58
4	B41J：打字机；选择性印刷机构，即不用印版的印刷机构；排版错误的修正	101	86	4	9.79	63	476	0	59	47	89.07
4	B41C：印刷版的制造或复制工艺	4	4	1	8.5	9	13	0	4	7	85.81
5	B44F：特种图样或图画	2	2	0	13.5	3	6	0		5	76.41
5	H04S：立体声系统	14	7	7	2.29	12	12	0		10	74.65
5	G11B：基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储	14	10	5	9.1	48	78	0	5	31	65.80
5	C07H：糖类；及其衍生物；核苷；核苷酸；核酸	91	73	41	7.01	265	181	2	4	273	80.56
5	C30B：单晶生长（用超高压的，例如用于金刚石形成的入B01J 3/06）；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼（金属或合金的区熔精炼入C22B）；具有一定结构的均匀多晶材料的制备（金属铸造，按同样工艺或装置的其他物质铸造入B22D；塑料的加工入B29；改变金属或合金的物理结构入C21D、C22F）；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理（用于半导体器件或元件生产的入H01L）；其所用的装置	171	107	82	4.38	298	327	1	4	163	81.05
5	H04N：图像通信，如电视	637	470	316	6.39	721	2132	57	106	412	89.95
6	H03B：使用工作于非开关状态的有源元件电路，直接或经频率变换产生振荡；由这样的电路产生噪声	16	10	6	7.5	34	73	0	3	12	74.99
6	B82B：通过操纵单个原子、分子或作为孤立单元的极少量原子或分子的集合而形成的纳米结构；其制造或处理	68	54	17	7.48	163	378	1	6	69	74.19
6	H01L：半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件	1375	803	540	6.37	1511	4179	2	201	729	86.34
6	C40B：组合化学；化合物库，如化学库、虚拟库	15	11	12	4.45	40	59	2	3	43	88.90
6	B81C：专门适用于制造或处理微观结构的装置或系统的方法或设备	183	123	49	6.84	316	852	0	15	133	92.15
6	G11C：静态存储器	188	82	61	4.98	254	351	0	7	113	86.65
6	B81B：微观结构的装置或系统，例如微观机械装置	94	56	24	7.0	221	445	0	7	94	82.07
7	H03C：调制	2	1	1	3.0	8		0		3	61.33
7	G03C：照相用的感光材料；照相过程，例如，电影、X射线、彩色或者立体照相过程；照相的辅助过程	4	4	0	5.25	8	19	0		2	68.84
8	G02F：用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器	193	124	99	4.56	343	475	0	21	213	86.17

数量榜单（按LOC）

排名	领域	数量

专利文献数据(0) 查看全部

专利名	申请号	申请日	公开（公告）号	公开（公告）日	发明人

高校名录